一.光伏光電清洗用水
我國電子工業部電子級水質技術標準(18.2MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)五級標準。在光電材料生產、加工、清洗、LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工作、FPC/PCB線路板、電路板、大規模、超大規模集成電路等需要大量的高純水、超純水清洗半成品及成品。
集成電路的集成度越高，對水質的要求越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續性、可持續性等提出了更加嚴格的要求。
二.玻璃鍍膜行業超純水
建筑和汽車玻璃鍍膜生產線，如：LOW-E鍍膜生產線;汽車玻璃鍍膜生產線;光電應用薄膜生產線;顯示器應用鍍膜生產線;塑料薄膜卷繞鍍膜生產線。
三.芯片半導體清洗用水
隨著電子工業的發展，在芯片半導體的生產加工過程中，對于水質的要求也越來越高。為了保證生產出超大規模的集成電路，除高純原材料、高純氣體、高純化學藥品外，超純水也是其中最關鍵的因素之一。超純水系統總體來說一般可分為三個部分：超純水制造區、超純水拋光循環區、超純水輸送管網。
此外，超純水在醫藥用水、生物制藥用水等領域也有廣泛應用與RO等水處理技術相結合，能形成完善的純水、高純水生產線，產水水質高，可達到國家電子級水Ⅰ級標準，電阻率為15-18MΩ.cm，細菌內毒素含量小于0.1mg/L，EDI技術將獲得更廣泛的應用。