你知道芯片半導(dǎo)體清洗用水有什么要求嗎

半導(dǎo)體中的雜質(zhì)對(duì)電阻率的影響非常大。半導(dǎo)體中摻入微量雜質(zhì)時(shí)，雜質(zhì)原子附近的周期勢(shì)場(chǎng)受到干擾并形成附加的束縛狀態(tài)。

一.半導(dǎo)體芯片清洗超純水設(shè)備水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

半導(dǎo)體芯片清洗超純水設(shè)備出水水質(zhì)完全符合美國(guó)ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

二.半導(dǎo)體清洗超純水設(shè)備制備工藝：

1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)

2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)

3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(pH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥17MΩ.CM)

4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)

5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過(guò)濾器→用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)

三.半導(dǎo)體清洗超純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：

1.電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗

2.電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

3.顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水

4.黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水

5.液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液

6.晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

7.集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片

8.半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路

9.LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

10.高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)

11.半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗

12.超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料

13.實(shí)驗(yàn)室和中試車間

14.汽車、家電表面拋光處理

15.光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品

超純水系統(tǒng)總體來(lái)說(shuō)一般可分為三個(gè)部分：超純水制造區(qū)(CUB部分)、超純水拋光循環(huán)區(qū)(FAB部分)、超純水輸送管網(wǎng)(FAB各使用區(qū))。